2014年中國閃存芯片行業(yè)技術趨勢分析
本文導讀:工藝節(jié)點與芯片成本密切相關。在NOR Flash 領域,目前55nm~58nm 工藝節(jié)點的產品已開始大規(guī)模商用,45nm 產品也已開始研發(fā)。在NAND Flash 領域,目前20/19nm 以上工藝節(jié)點是主流的商用制程,未來主流產品將向1Y nm 發(fā)展。
中企顧問網訊:
1、行業(yè)的技術水平
(1)工藝節(jié)點及封裝水平
工藝節(jié)點與芯片成本密切相關。在NOR Flash 領域,目前55nm~58nm 工藝節(jié)點的產品已開始大規(guī)模商用,45nm 產品也已開始研發(fā)。在NAND Flash 領域,目前20/19nm 以上工藝節(jié)點是主流的商用制程,未來主流產品將向1Y nm 發(fā)展。
工藝節(jié)點由20/19nm 轉向1Y nm,能使單顆芯片的面積減少約三分之一,從而導致芯片價格大幅降低。在芯片封裝工藝上,3D 封裝和系統(tǒng)級封裝(SiP)在特定領域已開始迅速發(fā)展。
(2)性能水平
閃存芯片性能可在一定程度上反映設計水平。數據傳輸速度方面,當前串行NOR Flash 芯片的數據傳輸速率約為560M bps、并行NOR Flash 芯片的數據傳輸速率約為800M bps,NAND Flash 產品的數據傳輸速率約為1.6G bps。可靠性及壽命方面,當前NOR Flash 產品的可擦寫次數約為10 萬次,數據存儲時間約為10 年;MLC 型NAND Flash 產品的可擦寫次數約為5000 次,SLC 型約為50,000次,數據存儲時間約為10 年。功耗方面,15μA 為當前NOR Flash 產品的普遍水平,15-20μA 為當前NAND Flash 產品的普遍水平。
相關市場調研報告請見中企顧問網發(fā)布的《2014-2020年中國LED芯片市場監(jiān)測與投資前景評估報告》
2、行業(yè)的技術特點
該行業(yè)技術特點決定了產品應用范圍,具體如下:
(1)NOR Flash 芯片技術特點為可隨機存儲,確保了較快的隨機讀取速度;可執(zhí)行代碼,確保可直接和處理器連接。因此,NOR Flash 芯片廣泛應用于需要頻繁執(zhí)行各類程序的嵌入式領域,如代碼存儲。未來NOR Flash 芯片主要在降低成本和功耗、提升擦寫編程速度、提升可靠性等方面進行技術升級。
(2)NAND Flash 芯片技術特點為非隨機存儲、不可執(zhí)行代碼,但以塊為單位進行存儲操作,具備較高的存儲速度,適合大容量的數據存儲。因此,NANDFlash 芯片主要應用于批量數據存儲的領域,如大容量數據存儲。由于NANDFlash 工藝節(jié)點越小,越容易出現壞塊,需要軟件和固件來管理壞塊,技術復雜度較高。未來NAND Flash 芯片主要在降低成本、提高存儲容量、提高存取速度、提升可靠性等方面進行技術升級。







